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反滲透阻垢劑作用機理是什么?

2024/1/8 16:14:53 / 作者:純水處理設(shè)備公司 / 來源:山藝環(huán)保

阻垢劑(分散劑)

阻垢劑不僅能能阻止難溶鹽結(jié)晶、結(jié)垢、沉淀形成,還能分散難溶鹽、金屬氧化物、氫氧化物、硅酸聚合物、膠體物質(zhì)、生物污染物的化學物質(zhì)。大多數(shù)阻垢劑是一些專用有機合成聚合物(比如聚丙烯酸、羧酸、聚馬來酸、有機金屬磷酸鹽、聚膦酸鹽、膦酸鹽、陰離子聚合物)等,這些聚合物的分子量在2000-10000道爾頓不等。

阻垢原理

無機垢的形成過程可分為下面3個步驟:

①形成過飽和溶液;

②生成晶核;

③晶核成長,形成晶體;

這3個步驟中有一個遭到破壞,結(jié)垢過程即被減緩或抑制。阻垢劑的作用就是有效阻止這些步驟中的一個或幾個,以達到阻垢目的。阻垢劑千擾晶體生長的機理有如下幾種說法

1、鰲合增溶作用

螯合增溶作用是指阻垢劑與水中Ca2+、Mg2+、Sr2+、Ba2+等高價金屬離子絡(luò)合成穩(wěn)定的水溶性螯合物,使水中游離態(tài)鈣、鎂離子的濃度相應(yīng)降低,這樣就好像使CaCO3等物質(zhì)的溶解度增大了,本來會析出溶液的CaCO3等物質(zhì)實際上沒有形成沉淀。

閾限效應(yīng)阻垢是指只需向溶液中加入少量的阻垢劑,就能穩(wěn)定溶液中大量的結(jié)垢離子,它們之間不存在嚴格的化學計量關(guān)系,當阻垢劑的量增至過大時,其穩(wěn)定阻垢作用并無明顯改進。

2、晶格畸變作用

晶體正常形成的過程是微粒子(離子、原子或分子)根據(jù)特定的晶格方式進行十分有規(guī)則的排列,從而形成外形規(guī)則、熔點固定、致密堅固的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。所謂晶體畸變是指在晶體生長的過程中,常常會由于晶體外界的一些原因,而使得晶體存在空位、錯位等缺陷或形成鑲嵌構(gòu)造等畸變,其結(jié)果使同一晶體的各個晶面發(fā)育不等。晶體中這種局部組分的差異會導致晶體內(nèi)部的應(yīng)力,晶體本身與鑲嵌物質(zhì)脫脹系數(shù)的不同也會導致應(yīng)力。這些應(yīng)力使晶體不穩(wěn)定。當環(huán)境發(fā)生某些變化時,大晶體便會碎裂成小晶體。

阻垢劑分子由于吸附在位于晶體活性生長點的晶格點陣上,使晶體不能按照晶格排列正常生長,使晶體發(fā)生畸變,使晶體的內(nèi)部應(yīng)力增大導致晶體破裂,從而防止微晶沉積成垢,達到阻垢目的。

3、吸附與分散作用

阻垢分散劑屬于陰離子有機化合物,可因物理化學吸附作用而吸附于膠體顆粒及微晶粒子上,在顆粒表面形成新的雙電層,改變顆粒表面原來的電荷狀況。于是,因同性電荷相排斥而使它們穩(wěn)定地分散在水體中。

阻垢劑的合理添加阻止了反滲透RO系統(tǒng)中進水和濃水的難溶鹽結(jié)垢生長,提高了系統(tǒng)的極限回收率上限,降低了系統(tǒng)穩(wěn)定運行結(jié)垢風險。

阻垢劑/分散劑注入系統(tǒng)的設(shè)計應(yīng)該保證在進入RO系統(tǒng)之前得到充分混合。大多數(shù)系統(tǒng)的加藥點設(shè)在RO進水保安過濾器之前,通過在過濾器中的緩沖時間及RO高壓泵的攪拌作用來促進混合。如果系統(tǒng)采用加酸調(diào)節(jié)pH,推薦加酸點要在上游足夠遠的地方,在到達阻垢劑/分散劑注入點之前已經(jīng)完全混合均勻。

阻垢劑/分散劑的加藥泵要調(diào)到較高的運行頻率,建議的頻率是不低于5秒鐘一次。阻垢劑/分散劑的典型添加量為2-6ppm,一般采用3ppm投加量??梢愿鶕?jù)現(xiàn)場實際情況,對藥劑進行稀釋。稀釋了的阻垢劑/分散劑在儲槽中會被生物污染,所以稀釋液的保留時間應(yīng)在7-10天左右。正常情況下,未經(jīng)稀釋的阻垢劑/分散劑不會受到生物污染。


 

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